[미래경제 한우영 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 새해 첫 현장경영 일정으로 경기도 화성사업장 반도체연구소를 찾았다. 

삼성전자에 따르면 2일 이 부회장은 경기도 화성사업장 반도체연구소를 찾아 3나노 공정기술과 관련해 보고 받고 DS(디바이스솔루션) 부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의했다고 회사는 밝혔다.

그는 현장에서 "과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다"며 "역사는 기다리는 것이 아니라 만들어 가는 것"이라고 강조했다.

그동안 삼성전자 실적을 이끌었던 반도체 부문은 지난해 공급 과잉 및 가격 하락으로 어려움을 겪었다.

이 부회장은 지난해 첫 일정으로는 경기 수원사업장 5세대 이동통신(5G) 네트워크 통신장비 생산라인 가동식에 참석해 '4차 산업혁명의 전방 기지'를 둘러봤다. 

올해는 차세대 먹거리에 속하는 '3나노 반도체'와 관련 전략을 논의하며 신성장 사업에 힘을 싣는 모습이다.

3나노 반도체는 반도체 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술 'GAA(Gate-All-Around)'가 적용됐다. 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품과 비교해 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있으며 소비전력을 50% 감소시키면서 성능은 약 30% 향상할 수 있다는 게 회사의 설명이다. 

특히 파운드리(반도체 위탁생산) 글로벌 1위 업체인 대만 TSMC와 선두를 겨루고 있는 기술이어서 지난해 발표된 '반도체 비전 2030' 실현과도 연관이 깊다. 

삼성전자는 2030년까지 총 133조원을 투자해 시스템 반도체 글로벌 1위로 올라서겠다고 밝힌 바 있다.