[미래경제 한우영 기자] 삼성전자가 오는 2021년까지 반도체 분야에 20조원이 넘는 금액을 추가로 투자한다.

삼성전자는 4일 평택 반도체 단지에서 열린 제품 출하식에서 오는 2021년까지 30조원이 투자될 예정이라고 밝혔다.

평택 공장에는 평택 라인 부지 조성과 공장 건립, 생산 장비 등에 15조6000억원 투입된 것에 추가적으로 14조4000억원이 투자된다.

반도체 생산라인 1개를 건설하는데 약 10조~12조원이 투입되는 만큼 1개 라인이 더 추가될 가능성도 농후하다. 특히 평택 공장은 확장을 염두에 두고 건설이 이뤄진 만큼 추가 라인 설치에 문제가 없는 것으로 전해진다.

화성 사업장에도 6조원을 추가적으로 투입하기로 했다, 화성 사업장에는 EUV(극자외선 노광장비) 등 첨단 인프라에 최적화된 신규라인을 확보하기로 했다. 이곳에서는 7나노 이하 최첨단 제품이 생산될 것으로 예상된다. 삼성전자는 7나노 이하 공정에서는 EUV를 활용하겠다고 밝힌 상황이다.

이와 함께 중국 시안(西安)에 반도체 라인 추가 건설도 검토하고 있다. 시안 공장은 2014년 완공돼 현재 현재 풀가동중으로 웨이퍼 기준 월 12만장 수준의 3D 낸드를 생산하는 것으로 알려졌다. 삼성전자는 낸드플래시 최대 수요처인 중국시장 변화에 대응하기 위해 생산라인을 추가한다는 계획이다.

이는 데이터센터와 빅데이터, AI(인공지능), 오토모티브 등 다가오는 미래 IT 시장에서 첨단 반도체 수요가 지속적으로 확대될 것이라는 전망에 따른 대응이다. 최근에도 반도체 시장은 수요가 계속 증가하면서 글로벌 IT 고객들이 물량확보에 어려움을 겪고 있다는 설명이다.