[미래경제 김정희 기자] 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 국가핵심기술과 영업비밀 등을 유출한 혐의로 삼성전자 옛 직원이 항소심에서 실형을 선고받았다.

17일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(이성범 부장검사)에 따르면 서울고법은 지난 14일 부정경쟁방지법 위반·산업기술보호법 위반 혐의 등으로 기소된 전 삼성전자 엔지니어 최모(44)씨에게 징역 1년 6개월의 실형과 벌금 1000만원을 선고하고 법정구속했다.

앞서 1심 재판부는 A씨에게 징역 1년6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했다. 당시 검찰은 A씨가 국가의 안전보장 및 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정기술을 부정 취득해 사익 목적으로 활용했다며 더 무거운 처벌이 필요하다고 보고 항소했다.

검찰은 "항소심 재판부는 유출될 경우 국가 안전보장 및 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정기술을 취득·유출한 범죄의 중대성, 범행의 내용, 수법에 비춰 죄책이 무거움에도 A씨가 공판 과정에서 혐의를 극히 일부만 인정하면서 반성하지 않은 점 등을 고려하여 실형을 선고했다"고 밝혔다. 

최씨는 삼성전자에서 일하면서 해외 경쟁업체인 인텔로 파운드리 반도체 핵심 기술이 담긴 파일을 유출하려 한 혐의로 재판에 넘겨졌다.

인텔로 이직을 준비하던 최씨는 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 33개 파일을 외부에서 열람한 뒤 이를 촬영해 빼돌린 것으로 조사됐다.